臺積電今年要大規模量產3nm工藝了，三星也是，兩家還要在2025年左右量產2nm工藝，對EUV光刻工藝的需求更高，而ASML今年底也會出貨新款EUV光刻機NXE:3800E，2nm工藝就靠它了。

ASML是唯一能量產EUV光刻機的公司，而且迭代了多次，主要是提升能效及產能，目前最新的型號是NXE:3600D，NXE:3800E計劃是年底出貨，進一步降低EUV光刻的成本。

NXE:3800E光刻機的曝光能力將達到30mJ/cm2，WPH每小時產能大約是195片晶圓，后續還會提升到220片晶圓/小時，產能比當前型號高出30%以上。

至于售價，NXE:3800E的價格還沒有權威說法，但是此前EUV光刻機就賣到1.5億美元以上，這兩年還有通脹等因素，價格10億起步是少不了的。

未來的高NA孔徑EUV光刻機會更貴，價格輕松突破25到30億元之間。

NXE:3800E光刻機今年底出貨的話，考慮到安裝、調試及生產的周期，未來臺積電、三星會主要在2nm節點使用，而高NA孔徑的下一代光刻機要解決的是1nm及之后的工藝。