7月6消息，據DigiTimes報道，荷蘭光刻機大廠ASML正在考慮發布其深紫外光刻 (DUV) 設備的特殊版本，以便使得該設備符合美國及荷蘭最新的出口規則，并且無需許可證即可運送給中國客戶。

報道稱，該特別版DUV光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統改造，而NXT: 1980Di 是 10 年前推出的舊型號，不在限制范圍內。

芯智訊在此前《荷蘭半導體設備出口限制新規詳解》當中有指出，荷蘭政府的對于DUV光刻機的限制要求是需要同時滿足最小可分辨特征尺寸小于或等于45nm和DCO值小于或等于1.50nm這兩個條件，因此，ASML的NXT:1980系列（分辨率為38納米左右，但DCO值是小于等于1.6nm）依然可以不受荷蘭新規限制，不需要許可就能夠向中國出口。

ASML的聲明也表示，根據荷蘭新的出口管制條例規定，ASML TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統需要向荷蘭政府申請出口許可證才能出口。而目前有在售NXT1980系列則不受影響。

雖然去年10月美國出臺了對華半導體出口限制新規，限制了可以被用于先進制程邏輯芯片及先進存儲芯片的美系半導體設備的對華出口。但是，ASML是荷蘭設備廠商，并不受該規則影響。今年1月，ASML CEO彼得·溫克寧就曾公開表示，可以不受限的向中國出口DUV光刻機。

或許正因為如此，隨后美國方面又開始向荷蘭施壓，要求荷蘭跟進美國的新規。于是在今年7月1日，荷蘭正式出臺了聚焦于半導體設備的出口限制新規。

但是，荷蘭方面的新規也沒有限制ASML NXT:1980系列，也就是說NXT:1980系列本就符合美國及荷蘭的新規，那為何傳聞稱ASML還要考慮推出面向中國市場的“特供版”NXT:1980系列呢？

從DigiTimes的報道來看，還是糾結于NXT:1980系列有可能制造出先進制程芯片。認為ASML會推出更低分辨率版本的“特供版”NXT 1980系列，以避免相關問題。

據芯智訊了解，NXT:1980Di 雖然分辨率在38nm左右，但是通過多重曝光，依然可以支持到7nm左右。據說臺積電的第一代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實現的。但是這樣做，步驟更為復雜，對技術要求高，成本也更高，良率可能也會有損失。實際上，目前國內已有的NXT:1980Di 基本都是被用于45nm以下16nm以上的成熟制程的生產。

更何況，正如前面芯智訊所指出的，ASML現有的NXT:1980系列本就符合美國及荷蘭的新規，可以不需要許可即可出口到中國，為什么還需要多此一舉針對中國市場推出進一步閹割的NXT:1980版本？完全沒必要。純粹是灣灣的媒體在搞事！

所以，在今傍晚時候，ASML官方也對于這則傳聞進行了辟謠。ASML回應稱：ASML都遵守所適用的法律條例，公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。