22日訊，荷蘭光刻機設備生產商阿斯麥（ASML）此前公布了 2021 年第二季度財報。此外，ASML方面表示，EUV (極紫外光) 光刻業務: 第一臺NXE:3600D已出貨給客戶。相較于前一代產品，NXE:3600D的生產力提高15%到20%，且套刻精度(overlay)也提高 30%。ASML正增加EUV在存儲產業的量產應用，并將計劃協助三個 DRAM 客戶實現在未來的制程節點中導入EUV。

ASML 正努力增加 EUV 在存儲產業的量產應用，并將計劃協助三個 DRAM 客戶實現在未來的制程節點中導入 EUV。在其 DUV 業務中，TWINSCAN NXT:2000i（一種 ArFi 浸入式系統）創下了單日在客戶處曝光 6,300 多片晶圓的記錄。