在當(dāng)前的硅基芯片制造過程中，光刻法是唯一的量產(chǎn)方法。

什么叫光刻法，既然就是利用光線，照射刻錄好的光掩膜板，把上面的電路圖，投影到硅晶圓上，類似于投影機(jī)的原理一樣。

而這個(gè)過程中，需要一種最重要的工具，那就是光刻機(jī)，而光刻機(jī)的分辨率，就決定了芯片工藝。

所以光刻機(jī)有DUV光刻機(jī)、浸潤(rùn)式光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)等，這些一代又一代的光刻機(jī)，提高的關(guān)鍵都是分辨率，也就是投影的精度，而對(duì)應(yīng)的就是芯片工藝，比如EUV光刻機(jī)，用于7nm及以下的芯片。

目前全球僅有4家廠商，能夠生產(chǎn)制造芯片的前道光刻機(jī)，分別是荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能，中國(guó)的上海微電子。

不過大家的水平不一樣，ASML>尼康>佳能>上海微電子。

ASML是全球唯一一家能夠制造EUV光刻機(jī)的廠商，而尼康的最高水平是浸潤(rùn)式光刻機(jī)，佳能與上海微電子的水平更差一些。

所以這就奠定了ASML的王者地位，只要誰(shuí)的芯片工藝想進(jìn)入7nm，就必須找ASML買EUV光刻機(jī)，否則就不行。

所以一直以來，也有眾多的廠商，在研究另外的技術(shù)，以期不用EUV光刻機(jī)，也能制造7nm及以下的芯片。

那么有廠商突破了么？目前還沒有，不過應(yīng)該很快了，我想看到這個(gè)消息，ASML應(yīng)該也是有點(diǎn)慌了。

近日佳能就表示，到2025年，可以基于自己的NIL納米壓印技術(shù)，實(shí)現(xiàn)5nm芯片的制造，不再需要EUV光刻機(jī)了。

NIL納米壓印技術(shù)，是什么技術(shù)？從名字就可以看出來，類似于印刷的一種技術(shù)。

光刻技術(shù)是投影原理，而NIL納米壓印，是將電路圖刻錄到一個(gè)專用的“章子”上，然后再將這個(gè)“章子”蓋到硅晶圓上，在硅晶圓上就有了電路圖，最終制造成芯片。

納米壓印的難點(diǎn)，是如何將精細(xì)的電路圖刻錄到章子上，目前佳能已經(jīng)有成熟的技術(shù)，不過精度還不太高，佳能與鎧俠合作，應(yīng)用于部分存儲(chǔ)芯片的制造上。

不過據(jù)稱最近有了突破，所以佳能再吹牛稱，到2025年要實(shí)現(xiàn)5nm芯片的制造，不再需要EUV光刻機(jī)。

那么國(guó)內(nèi)在NIL納米壓印技術(shù)上，又表現(xiàn)的如何呢？其實(shí)國(guó)內(nèi)也有很多公司在研究這個(gè)技術(shù)，不過總體而言，比佳能還是落后一些。

從專利來看，在NIL納米壓印技術(shù)上，佳能專利擁有913件，差不多接近所有專利的100%，明顯是一家獨(dú)大的。

不過雖然專利不行，國(guó)產(chǎn)技術(shù)還是有成績(jī)的，比如天仁微納，就有類似的技術(shù)，只不過目前沒有用在邏輯芯片上，更多是用在DOE、AR／VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等領(lǐng)域。

而從精度來看，據(jù)說已經(jīng)在150／300mm基底面積上實(shí)現(xiàn)高精度（優(yōu)于10nm ），真假未知，但如果是真，還是挺讓人興奮的，希望國(guó)產(chǎn)加油吧，如果真的國(guó)產(chǎn)NIL納米壓印也實(shí)現(xiàn)到5nm，那根本就不怕光刻機(jī)卡脖子了。