ASML是全球光刻機(jī)壟斷者，EUV光刻機(jī)占100%的市場(chǎng)，全球只有ASML能生產(chǎn)。浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，ASML占了90%以上的市場(chǎng)。

而整個(gè)光刻機(jī)領(lǐng)域，ASML一家占了80%以上的市場(chǎng)，靠著光刻機(jī)，ASML制霸全球，可以說(shuō)所有的晶圓廠，都被ASML牽著走。

做生意當(dāng)然不能是一錘子買賣啊，必須持續(xù)不斷的賺錢才行，所以為了賺錢， ASML的光刻機(jī)，也是一代又一代的更新，每一代相比上一代，在精度、速度等上面，都會(huì)有所改進(jìn)，但改進(jìn)卻又不是特別多。

這樣晶圓廠，為了獲得更高的精度，更快的速度，更高的效率，不得不一代又一代采購(gòu)ASML的新光刻機(jī)，淘汰掉舊光刻機(jī)。

其實(shí)在EUV光刻機(jī)之前，這種更新?lián)Q代，晶圓廠們還是能夠接受的，畢竟光刻機(jī)也不是特別貴，但到了EUV光刻機(jī)之后，就麻煩大了。

因?yàn)橐慌_(tái)EUV光刻機(jī)，就是1億多美元，10臺(tái)就是10多億美元，換成人民幣，就是上百億元，如果還經(jīng)常要更新?lián)Q代，這樣的成本，沒(méi)有幾家廠商吃的消啊。

所以一直以來(lái)，就有企業(yè)想要用舊一點(diǎn)光刻機(jī)，來(lái)實(shí)現(xiàn)更高精度芯片的制造。

比如臺(tái)積電，第一代7nm工藝時(shí)，用的是浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，不采用EUV光刻機(jī)。

后來(lái)更是用舊EUV光刻機(jī)，生產(chǎn)更先進(jìn)一點(diǎn)的3nm芯片技術(shù)，而不是直接就從ASML那采購(gòu)更高級(jí)的EUV光刻機(jī)。

而近日，臺(tái)積電更是表示，其A16（也可以認(rèn)為是1.6nm）工藝，將在2026年量產(chǎn)，而所謂的A16工藝，實(shí)際上是2nm工藝的升級(jí)版，臺(tái)積電2025年實(shí)現(xiàn)2nm，2026年實(shí)現(xiàn)A16。

同時(shí)臺(tái)積電還著重提出，A16制程工藝并不需要下一代High-NA EUV光刻系統(tǒng)的參與。

為何會(huì)著重提出這一點(diǎn)，原因在于目前業(yè)界有一種聲音，那就是進(jìn)入2nm工藝，必須用到ASML最新的光刻機(jī)，也就是High-NA EUV光刻機(jī)。

這種High-NA EUV光刻機(jī)對(duì)應(yīng)之前的EUV光刻機(jī)，最大的區(qū)別的就是數(shù)值孔徑的變化，之前的EUV光刻機(jī)數(shù)值孔徑是0.33，而High-NA EUV提供了0.55數(shù)值孔徑。

ASML稱，之前的標(biāo)準(zhǔn)EUV光刻機(jī)可以打印13.5nm的線寬，而High-NA EUV光刻機(jī)可打印8nm線寬，所以生產(chǎn)2nm芯片時(shí)，效果更好。

另外ASML還稱，新EUV光刻機(jī)處理晶圓的速度提升了100%至150%，從原來(lái)的每小時(shí)200片晶圓，提升到每小時(shí)400至500片晶圓。

不過(guò)，這樣的光刻機(jī)好是好，價(jià)格可不便宜，設(shè)備的價(jià)格約在3.85億美元(約28億元人民幣)起步。

臺(tái)積電目前擁有標(biāo)準(zhǔn)的0.33數(shù)值孔徑的光刻機(jī)上百臺(tái)，如果全部換成這種新的，成本高達(dá)400億美元，臺(tái)積電當(dāng)然不想換，成本完全背不起啊。

所以，臺(tái)積電的計(jì)劃是，不管你ASML怎么升級(jí)，反正我不變，我用舊的EUV光刻機(jī)，也要生產(chǎn)出2nm，甚至升級(jí)版A16(1.6nm)的芯片出來(lái)。

這對(duì)于ASML而言，就有點(diǎn)麻煩了，一旦新EUV光刻機(jī)，得不到臺(tái)積電這樣的巨頭支持，那賣給誰(shuí)呢？因?yàn)橐坏┡_(tái)積電這么干，三星、intel只怕也會(huì)學(xué)，那ASML一直以來(lái)，靠著不斷升級(jí)來(lái)維持的營(yíng)收增長(zhǎng)，怎么實(shí)現(xiàn)了？